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Home > Products > GaN Substrate Wafer > GaN-On-Sapphire Template > 氮化镓晶片 蓝宝石氮化镓衬底晶片

氮化镓晶片 蓝宝石氮化镓衬底晶片

尺寸:2英寸
厚度:4.5um 20um
掺杂:非掺杂,硅掺杂,镁掺杂
衬底结构:GaN-On-Sapphire
 

Product Description

苏州恒迈瑞材料科技作为氮化镓晶片(GaN氮化镓衬底片)的专业生产厂家,可提供2英寸氮化镓衬底晶片,衬底结构为GaN-On-Sapphire. GaN氮化镓层厚度为4.5um及20um,蓝宝石衬底厚度为430um。蓝宝石氮化镓晶片掺杂类型主要分为非掺杂,硅掺杂及镁掺杂,包装方式为单个晶圆盒或Cassette盒。

2英寸氮化镓晶片规格


GaN氮化镓材料的研究与应用是目前全球半导体研究的前沿和热点,是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,并与SIC、金刚石等半导体材料一起,被誉为是继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料。它具有宽的直接带隙、强的原子键、高的热导率、化学稳定性好(几乎不被任何酸腐蚀)等性质和强的抗辐照能力,在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景。

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